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国家知识产权局信息数据显现，浙江大学;杭州高烯科技有限公司请求一项名为“一种界面安稳的石墨烯基导热膜及其制备方法”的专利，公开号CN121318454A，请求日期为2025年10月。
专利摘要显现，本发明公开了一种界面安稳的石墨烯基导热膜及其制备方法。在制备石墨烯膜时使用带有特定尺度网纹结构的基底，一方面利于高外表能的氧化石墨烯前驱体薄膜与基体别离，一方面为后续碳化物的原位成长供给更多安稳的成核位点与互锁界面。原位成长的方法可以在石墨烯外表原位生成一层结构细密、以强化学键结合的超硬碳化物镀层，碳化物涂层可以与石墨烯构成超安稳界面，对石墨烯膜起到有用的维护效果，极大提高其抗磨损、抗冲击和耐空间环境腐蚀的才能。
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